【研报精华】华为投资光刻机产业链 突破高壁垒道阻且长
2021年06月15日 15:00
来源于
财新数据通
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光刻机是光刻工艺的核心设备，具体承担了将电路图从掩模上转移至硅片上的任务；当前，国内光刻机研发突破技术瓶颈仍面临组件复杂、供应商分散，以及配套半导体材料难以实现本土自给等问题
责任编辑：蒋飞 | 版面编辑：鲍琦
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