财新传媒

【研报精华】华为投资光刻机产业链 突破高壁垒道阻且长

2021年06月15日 15:00 来源于 财新数据通
可以听文章啦!
光刻机是光刻工艺的核心设备,具体承担了将电路图从掩模上转移至硅片上的任务;当前,国内光刻机研发突破技术瓶颈仍面临组件复杂、供应商分散,以及配套半导体材料难以实现本土自给等问题

责任编辑:蒋飞 | 版面编辑:鲍琦
财新私房课
好课推荐
财新微信


热词推荐
李显龙 东江环保 硬座 薄熙来二审维持原判 bdi 一致行动人 中远集团 新西兰8 0级地震 南华早报 毛超峰 黄坤明 做市商 启东事件 张进 农地改革试点总结